Kupfer-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6,35 mm, Cu 99,999

Kupfer-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6,35 mm, Cu 99,999
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  • ST-CU
Sputter-Target aus reinstem Kupfer Cu 99,999 % (Cu 5N) in Scheibenform, Ø 76,2 mm x 6,35 mm... mehr

Kupfer-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6,35 mm, Cu 99,999

  • Sputter-Target aus reinstem Kupfer Cu 99,999 % (Cu 5N)
  • in Scheibenform, Ø 76,2 mm x 6,35 mm (= 3" x 1/4")
  • als Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
  • hochreines, sauerstofffreies Kupfer mit mindestens 99,999% Cu, beinhaltet keine im Vakuum verdampfbaren
    Elemente
  • als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
  • Elementsammlungen
  • Planartarget, rund - weitere Durchmesser bzw. Werkstoffe auf Anfrage
Material: Kupfer
Reinheitsgrad: 99,999 (5N)
Durchmesser: 76,2 mm
Produktgruppen "Kupfer-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6,35 mm, Cu 99,999"

Buntmetalle - Elemente - Kupfer - Sputter-Targets

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