Sputter-Target nach Kundenvorgabe

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Sputter-Target nach Kundenvorgabe: in Scheibenform, als Draht, kundenspezifischer Targetgeometrie, Durchmesser bzw. Werkstoffe auf Anfrage
Durchmesser Ø 8 mm, Ø 15 mm, Ø 19 mm, Ø 24 mm, Ø 25 mm, Ø 25,4 mm, Ø 28 mm, Ø 50 mm, Ø 50,8 mm, Ø 57 mm, Ø 60 mm,Ø 75 mm, Ø 76,2 mm, Ø 100 mm, Ø 101,6 mm, Ø 125 mm, Ø 150 mm, Ø 152,4 mm x 0,5 ... 6,35 mm
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
z.B. aus Aluminium, Beryllium, Blei, Chrom, Eisen, Gold, Indium, Iridium, Kupfer, Magnesium, Molybdän, Nickel, Niob, Palladium, Platin, Silber, Silicium, Tantal, Titan, Vanadium, Wolfram, Zink, Zinn, Zirconium ...
ebenso möglich: Fertigung von Rückplatten, Bonden

Material:	Aluminium, Beryllium, Blei, Chrom, Eisen, Gold, Indium, Iridium, Kupfer, Magnesium, Molybdän, Nickel, Niob, Palladium, Platin, Silber, Silicium, Tantal, Titan, Vanadium, Wolfram, Zink, Zinn, Zirconium
Reinheitsgrad:	99,95 (3N5), 99,99 (4N), 99,995 (4N5), 99,999 (5N)
Durchmesser:	8 mm, 19 mm, 24 mm, 25 mm, 25,4 mm, 28 mm, 50 mm, 50,8 mm, 57 mm, 60 mm, 75 mm, 76,2 mm, 100 mm, 101,6 mm, 125 mm, 150 mm

Produktgruppen "Sputter-Target nach Kundenvorgabe"

Elemente - Sputter-Targets

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