Chrom-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 3,2 mm, Cr 99,95

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Sputter-Target aus reinstem Chrom Cr 99,95% (Cr 3N5), Ultra High Purity Chromium (UHP Cr) in... mehr

Sputter-Target aus reinstem Chrom Cr 99,95% (Cr 3N5), Ultra High Purity Chromium (UHP Cr)
in Scheibenform, Ø 76,2 mm x 3,2 mm (= 3" x 1/8")
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
CAS-Nummer: 7440-47-3
als Hartstoffschicht bei der Verchromung im Magnetronsputterverfahren, durch Lichtbogenverdampfen oder Haftschicht für die DLC-Beschichtung
Elementsammlungen
Planartarget, rund - weitere Durchmesser bzw. Werkstoffe auf Anfrage

Produktgruppen "Chrom-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 3,2 mm, Cr 99,95"

Chrom - Elemente - Refraktärmetalle - Technologiemetalle - Sputter-Targets

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