Sputter-Target aus hochreinem Titan Ti 99,99% (Ti 4N), alternativ auch aus Titan Ti 99,9% (Ti 3N)
in Scheibenform, Ø 50 ... Ø 150 mm x 4 ... 8 mm
als Beschichtungsmaterial/Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
CAS-Nummer: 7440-32-6
als Röntgentargets für analytische Techniken wie die Röntgenfluoreszenzspektroskopie
als Titanschicht im Magnetronsputterverfahren, durch Lichtbogenverdampfen oder Haftschicht für die DLC-Beschichtung, PVD-Beschichtung
Titan-Sputtertargets können u.a. zur Abscheidung einer dünnen Titanschicht auf unterschiedlichsten Trägermaterialien verwendet werden, damit lassen sich durch anschließendes Anodisieren beständige Oberflächenfärbungen erzielen, das Farbspektrum reicht je nach Dicke der Oxidschicht von Gold, Gelb, Violett, Blau über Türkis und Grün bis hin zu Magenta
Elementsammlungen
Planartarget, rund - weitere Durchmesser, Reinheitsgrade bzw. Werkstoffe auf Anfrage
Material:
Titan
Reinheitsgrad:
99,9, 99,99 (4N)
Durchmesser:
50 mm, 50,8 mm, 62 mm, 75 mm, 76,2, 90 mm, 100 mm, 101,6 mm, 150 mm
