Germanium-Sputter-Target Ø 38 mm x 2 mm, Ge 99,999 (Ge 5N) kaufen

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Sputter-Target aus aus reinstem, monokristallinem Germanium Ge 99,999 (5N), nach... mehr

Sputter-Target aus aus reinstem, monokristallinem Germanium Ge 99,999 (5N), nach dem Zonenrandschmelzverfahren hergestellt
in Scheibenform, Ø 38 mm x 2 mm
hochreine Sputter-Targets für Sputter-Coater, PVD-Beschichtung
CAS-Nummer 7440-56-4
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
Elementsammlungen
Planartarget, rund - weitere Durchmesser bzw. Werkstoffe auf Anfrage

Produktgruppen "Germanium-Sputter-Target Ø 38 mm x 2 mm, Ge 99,999"

Sputter-Targets - Elemente - Germanium - Halbmetalle - Technologiemetalle

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