Niob-Sputter-Target, Nb 99,9 Ø 149,5 mm x 6 mm

Niob-Sputter-Target, Nb 99,9 Ø 149,5 mm x 6 mm
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Sputter-Target aus reinem Niob Nb 99,9% (Nb 3N) in Scheibenform, Ø 50 ... Ø 150 mm... mehr
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Niob-Sputter-Target, Nb 99,9 Ø 149,5 mm x 6 mm

  • Sputter-Target aus reinem Niob Nb 99,9% (Nb 3N)
  • in Scheibenform, Ø 50 ... Ø 150 mm x 4 ... 8 mm
  • als Beschichtungsmaterial/Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
  • CAS-Nummer: 7440-32-6
  • als Röntgentargets für analytische Techniken wie die Röntgenfluoreszenzspektroskopie
  • als Niobschicht im Magnetronsputterverfahren, durch Lichtbogenverdampfen oder Haftschicht für die DLC-Beschichtung, PVD-Beschichtung
  • Niob-Sputtertargets können u.a. zur Abscheidung einer dünnen Niobschicht auf unterschiedlichsten Trägermaterialien verwendet werden
  • Elementsammlungen
  • Planartarget, rund - weitere Durchmesser, Reinheitsgrade bzw. Werkstoffe auf Anfrage
Material: Niob
Reinheitsgrad: 99,9
Durchmesser: 50 mm, 50,8 mm, 62 mm, 75 mm, 76,2, 90 mm, 100 mm, 101,6 mm, 150 mm
Produktgruppen "Niob-Sputter-Target, Nb 99,9 Ø 149,5 mm x 6 mm"

Elemente - Niob - Refraktärmetalle - Technologiemetalle - Kritische Rohstoffe - Sputter-Targets

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