Sputter-Target aus hochreinem Silicium Si 99,999 (5N)
in Scheibenform, Ø 50,8 mm (= 2 Zoll), Ø 76,2 mm (= 3 Zoll), Ø 101,6 mm (= 4 Zoll), Ø 127 mm = 5 Zoll), Ø 152,4 mm (= 6 Zoll), Ø 203,2 mm (= 8 Zoll) oder Ø 304,8 mm (= 12 Zoll) in der Dicke 6 mm
als Silicium-Sputter-Target zur PVD-Beschichtung anderer Werkstoffe, mit Sputter-Targets aus Silicium lassen sich funktionale, „konfigurierbare" Siliciumschichten auf verschiedene Materialien und Werkstoffe aufbringen (Sputter-Coater, PVD-Beschichtung)
multikristallin, 5N, p-Typ, Bor-dotiert, spez. Widerstand ca. 0,01 Ohm cm
Materialprobe mit definiertem Reinheitsgrad Si 99,999 zur vergleichenden Untersuchung von Werkstoffeigenschaften
mit guten Transmissionswerte im IR-Bereich eignet sich Silicium für Infrarot-Anwendungen in der Optik, IR-Fenster
Dichte: 2,33 g/cm³
CAS-Nummer 7440-21-3
als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
Elementsammlungen
weitere Optionen auf Anfrage
Material:
Silicium
Dicke:
6 mm
Reinheitsgrad:
99,999 (5N)
Durchmesser:
50,8 mm, 76,2 mm, 101,6 mm, 127 mm, 152,4 mm, 203,2 mm, 304,8 mm
