Aluminium-Sputter-Target, rund

Aluminium-Sputter-Target, rund
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  • ST-AL-4N-101.6x6.3
  • 76069100
Sputter-Target aus reinstem Aluminium Al 99,999% (Al 5N), Ultra High Purity Aluminium (UHP... mehr

Aluminium-Sputter-Target, rund

  • Sputter-Target aus reinstem Aluminium Al 99,999% (Al 5N), Ultra High Purity Aluminium (UHP Al), alternativ auch aus Aluminium Al 99,99% (Al 4N)
  • in Scheibenform, Ø 50 ... Ø 150 mm x 4 ... 8 mm
  • als Beschichtungsmaterial/Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
  • CAS-Nummer: 7429-90-5
  • als Röntgentargets für analytische Techniken wie die Röntgenfluoreszenzspektroskopie
  • als Aluminiumschicht im Magnetronsputterverfahren, durch Lichtbogenverdampfen oder Haftschicht für die DLC-Beschichtung, PVD-Beschichtung
  • im Vakuum verdampft, bilden Aluminiumschichten eine reflektierende Beschichtung, die man an Teleskopen, Autoscheinwerfern, Spiegeln, Verpackungen und Spielzeugen findet
  • Elementsammlungen
  • Planartarget, rund - weitere Durchmesser, Reinheitsgrade bzw. Werkstoffe auf Anfrage
Material: Aluminium
Reinheitsgrad: 99,99 (4N), 99,999 (5N)
Durchmesser: 50 mm, 50,8 mm, 62 mm, 75 mm, 76,2, 90 mm, 100 mm, 101,6 mm, 150 mm
Produktgruppen "Aluminium-Sputter-Target, rund"

Aluminium - Elemente - Leichtmetalle - Sputter-Targets

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