Aluminium-Sputter-Target Al 99,999, rund, Ø

Aluminium-Sputter-Target Al 99,999, rund, Ø
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  • ST-AL.33
Sputter-Target aus reinstem Aluminium Al 99,999% (Al 5N), Ultra High Purity Aluminium... mehr

Aluminium-Sputter-Target Al 99,999, rund, Ø

  • Sputter-Target aus reinstem Aluminium Al 99,999% (Al 5N), Ultra High Purity Aluminium (UHP Al)
  • in Scheibenform, Ø 50 ... Ø 150 mm x 4 ... 8 mm
  • als Beschichtungsmaterial/Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
  • CAS-Nummer: 7429-90-5
  • als Röntgentargets für analytische Techniken wie die Röntgenfluoreszenzspektroskopie
  • als Aluminiumschicht im Magnetronsputterverfahren, durch Lichtbogenverdampfen oder Haftschicht für die DLC-Beschichtung, PVD-Beschichtung
  • im Vakuum verdampft, bilden Aluminiumschichten eine reflektierende Beschichtung, die man an Teleskopen, Autoscheinwerfern, Spiegeln, Verpackungen und Spielzeugen findet
  • Elementsammlungen
  • Planartarget, rund - weitere Durchmesser bzw. Werkstoffe auf Anfrage
Material: Aluminium
Reinheitsgrad: 99,999 (5N)
Durchmesser: 50 mm, 50,8 mm, 62 mm, 75 mm, 76,2, 90 mm, 100 mm, 101,6 mm, 150 mm
Produktgruppen "Aluminium-Sputter-Target Al 99,999, rund, Ø"

Aluminium - Elemente - Leichtmetalle - Sputter-Targets

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