Sputter-Target aus reinstem Chrom Cr 99,95% (Cr 3N5), Ultra High Purity Chromium (UHP Cr)
in Scheibenform, Ø 50 ... Ø 150 mm x 1,5 mm, 3,2 mm oder 6 mm
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
CAS-Nummer: 7440-47-3
als Hartstoffschicht bei der Verchromung im Magnetronsputterverfahren, durch Lichtbogenverdampfen oder Haftschicht für die DLC-Beschichtung, PVD-Beschichtung
