- Artikel-Nr.: ST-GE
- Warennummer: 81129940
Sputter-Target aus aus reinstem, monokristallinem Germanium Ge 99,999 (5N), nach... mehr
Germanium-Sputter-Target Ø 38 mm x 2 mm, Ge 99,999
- Sputter-Target aus aus reinstem, monokristallinem Germanium Ge 99,999 (5N), nach dem Zonenrandschmelzverfahren hergestellt
- in Scheibenform, Ø 38 mm x 2 mm
- hochreine Sputter-Targets für Sputter-Coater, PVD-Beschichtung
- CAS-Nummer 7440-56-4
- als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
- als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
- Elementsammlungen
weitere Optionen auf Anfrage
| Material: | Germanium |
| Dicke: | 2 mm |
| Reinheitsgrad: | 99,999 (5N) |
| Durchmesser: | 38 mm |
Produktgruppen "Germanium-Sputter-Target Ø 38 mm x 2 mm, Ge 99,999"
Sputter-Targets - Elemente - Germanium - Halbmetalle - Technologiemetalle - Kritische Rohstoffe
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