Kupfer-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6,35 mm, Cu 99,999 kaufen

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Sputter-Target aus reinstem Kupfer Cu 99,999 % (Cu 5N) in Scheibenform, Ø 76,2 mm x... mehr

Sputter-Target aus reinstem Kupfer Cu 99,999 % (Cu 5N)
in Scheibenform, Ø 76,2 mm x 6,35 mm (= 3" x 1/4")
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik, PVD-Beschichtung
hochreines, sauerstofffreies Kupfer mit mindestens 99,999% Cu, beinhaltet keine im Vakuum verdampfbaren Elemente
als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
Elementsammlungen

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