Nickel-Sputter-Target, Ni 99,99

Nickel-Sputter-Target, Ni 99,99
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Durchmesser:

Stärke:

  • ST-NI
Sputter-Target aus reinstem Nickel Ni 99,99 % (Ni 4N) Ø 76,2 mm oder Ø 127 mm x 3 mm... mehr

Nickel-Sputter-Target, Ni 99,99

  • Sputter-Target aus reinstem Nickel Ni 99,99 % (Ni 4N)
  • Ø 76,2 mm oder Ø 127 mm x 3 mm oder 5 mm
  • als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik, PVD-Beschichtung
  • Nickel (Ni) ist ein alternatives Beschichtungsmaterial bei der EDX-Analyse, sowie bei BSE-Aufnahmen
  • als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
  • CAS-Nr. 7440-02-0
  • Elementsammlungen
weitere Optionen auf Anfrage
Material: Nickel
Dicke: 3 mm, 5 mm
Reinheitsgrad: 99,99 (4N)
Durchmesser: 76,2 mm, 127 mm
Produktgruppen "Nickel-Sputter-Target, Ni 99,99"

Elemente - ferromagnetische Stoffe - Nickel - Sputter-Targets

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