Nickel-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 3 mm, Ni 99,99 kaufen

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Sputter-Target aus reinstem Nickel Ni 99,99 % (Ni 4N) in Scheibenform, Ø 76,2 mm x... mehr

Sputter-Target aus reinstem Nickel Ni 99,99 % (Ni 4N)
in Scheibenform, Ø 76,2 mm x 3 mm (= 3" x 1/8")
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik, PVD-Beschichtung
Nickel (Ni) ist ein alternatives Beschichtungsmaterial bei der EDX-Analyse, sowie bei BSE-Aufnahmen
als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
CAS-Nr. 7440-02-0
Elementsammlungen
Planartarget, rund - weitere Durchmesser bzw. Werkstoffe auf Anfrage

Produktgruppen "Nickel-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 3 mm, Ni 99,99"

Elemente - ferromagnetische Stoffe - Nickel - Sputter-Targets

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