Zinkoxid-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6 mm, 99,99 (4N)

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  • Artikel-Nr.: ST-ZNO
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Oxidkeramik-Sputter-Target aus hochreinem Zinkoxid ZnO 99,99 % (4N, metal basis) Ø 76,2 mm x... mehr
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Zinkoxid-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6 mm, 99,99 (4N)

  • Oxidkeramik-Sputter-Target aus hochreinem Zinkoxid ZnO 99,99 % (4N, metal basis)
  • Ø 76,2 mm x 6 mm
  • bei extremem Reinheitsgebot, in der Vakuumtechnik, PVD-Beschichtung
  • als Kalibrierstandard für die Materialanalyse
  • CAS-Nummer 1314-13-2
weitere Optionen auf Anfrage
Material: Zink, Zinkoxid (ZnO)
Dicke: 6 mm
Reinheitsgrad: 99,99 (4N)
Durchmesser: 76,2 mm
Produktgruppen "Zinkoxid-Sputter-Target Ø 76,2 mm x 6 mm, 99,99 (4N)"

Zink - Sputter-Targets

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