Hafnium-Sputter-Target Hf 99,9 Ø 50,8 mm x 3,2 mm

Menge	Stückpreis
bis 2	1.190,00 € *
ab 3	1.071,00 € *

Sputter-Target aus reinem Hafnium Hf 99,9 % (Hf 3N) in Scheibenform, Ø 50,8 mm x... mehr

Sputter-Target aus reinem Hafnium Hf 99,9 % (Hf 3N)
in Scheibenform, Ø 50,8 mm x 3,2 mm Stärke
hochreine Sputter-Targets für Sputter-Coater, PVD-Beschichtung
CAS-Nr. 7440-58-6
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
als Material für Fenster von Röntgenröhren sowie Röntgen- und Gammastrahlungsdetektoren
als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
Elementsammlungen

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