als Spezial-Anode/Elektrode bei extremen Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik
hochreines, sauerstofffreies Kupfer mit mindestens 99,99% Cu, beinhaltet keine im Vakuum verdampfbaren Elemente
als Kupfer-Elektroden zur Herstellung einer kolloidalen Kupferlösung im Hochvolt-Plasma-Verfahren (Bredig-Verfahren) und zur elektrolytischen Herstellung kolloidaler Dispersionen als Kupferelektroden in Kolloidgeneratoren geeignet, z. B. beim CM2000 mit den Grundeinstellungen Volumen: 250 ml, Konzentration: 20 ppm, Strom: 10 mA, Zeit: ca. 1 h / ppm, über unser Adapterkabel können diese Elektroden auch an den Ionic Pulser pro 3 angeschlossen werden (ca. 5 ppm pro Stunde in 200 ml Aqua dest.)
Materialprobe mit definiertem Reinheitsgrad Cu 99,99 zur vergleichenden Untersuchung von Werkstoffeigenschaften, z.B. der Buntmetalle Kupfer, Messing, Bronze und Aluminiumbronze
als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
Elementsammlungen
Material:
Kupfer
Reinheitsgrad:
99,99 (4N)
Durchmesser:
8 mm
Länge:
100 mm
Produktgruppen "Kupfer-Elektrode Ø 8 mm x 100 mm, Cu 99,99"
