als Opferanode zum Verkupfern mittels Stift- / Tampongalvanik, reduzierter Kupferelektrolyt-Verbrauch
galvanisch abgeschiedenes Kupfer wird aufgrund seiner sehr guten elektrischen Eigenschaften zur Verbesserung der Leitfähigkeit eingesetzt, ebenso als Zwischenschicht vor dem Vernickeln und Verchromen von Stahloberflächen zum Zwecke der Verbesserung der Korrosionsbeständigkeit, zum Vorverkupfern von Zinkdruckguss
Materialprobe mit definiertem Reinheitsgrad Cu 99,9 zur vergleichenden Untersuchung von Werkstoffeigenschaften, z.B. der Buntmetalle Kupfer, Messing, Bronze und Aluminiumbronze
Elementsammlungen
Anwendungsbeispiel Daniell-Element: Die Kombination dieser Kupferelektrode mit der entsprechenden Zink-Anode ist die Basis für den Bau eines Daniell-Elements als klassisches Beispiel eines galvanischen Elements.
alternative Bezeichnungen: CW004A, Cu-ETP, E-Cu, 2.0060
