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Nickel-Sputter-Target, Ni 99,99

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Artikel-Nr.: ST-NI

Sputter-Target aus reinstem Nickel Ni 99,99 % (Ni 4N) Ø 76,2 mm oder Ø 127 mm x 3 mm... mehr

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Nickel-Sputter-Target, Ni 99,99

Sputter-Target aus reinstem Nickel Ni 99,99 % (Ni 4N)
Ø 76,2 mm oder Ø 127 mm x 3 mm oder 5 mm
als Spezial-Anode/Elektrode bei extremem Reinheitsgebot, kritischen elektrischen Bauteilen und in der Vakuumtechnik, PVD-Beschichtung
Nickel (Ni) ist ein alternatives Beschichtungsmaterial bei der EDX-Analyse, sowie bei BSE-Aufnahmen
als Kalibrierstandard für die Materialanalyse von Metallen
CAS-Nr. 7440-02-0
Elementsammlungen

weitere Optionen auf Anfrage

Material:	Nickel
Dicke:	3 mm, 5 mm
Reinheitsgrad:	99,99 (4N)
Durchmesser:	76,2 mm, 127 mm

Produktgruppen "Nickel-Sputter-Target, Ni 99,99"

Elemente - ferromagnetische Stoffe - Nickel - Sputter-Targets

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